应用于：
半导体晶元光刻和高精度PCB板曝光等。以LED单波段或混合波段作为光源，采用了阵列光学镜片整形后，输出均匀的平行光组成面光源（矩形或者特定形状光斑），实现波长365nm的紫外光（313nm或者405nm、435nm混合光），光束垂直照射于半导体光刻机掩膜板进行芯片光曝光，光能利用率高，光强分布均匀。
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